消息称 三星与ASML达成历史性协议 全力帮助三星在2nm芯片制造领域取得领先

据外网媒体SamMobile消息，近日，三星电子老板李在镕与半导体芯片设备制造商ASML达成重要业务交易。

据称，三星电子与ASML签署了一项价值1万亿韩元（7.55亿美元）的协议，ASML和三星两家公司将在韩国投资建设半导体芯片研究工厂，开发EUV技术。

三星电子副会长、设备解决方案部门负责人Kyung Kye-hyun强调，该公司的最新协议将帮助其获得下一代High-NA（数值孔径）EUV光刻扫描仪设备。

Kyung说：“三星已经确保了对High-NA设备技术的优先权，我相信我们创造了一个机会，从长远来看，我们可以优化High-NA技术在DRAM存储芯片和逻辑芯片生产中的使用。

此前，ASML曾称将于未来几个月内推出用于2nm制程节点的芯片制造设备，将数值孔径（NA）光学性能从0.33提高到0.55。

据称，ASML明年规划产能仅有10台，而英特尔已经预订了其中6台，再加上三星所获取的光刻机设备，目前留给台积电的机会似乎并不多了，不过ASML计划在未来几年内将此设备产能提高到每年20台。

目前，ASML官网列出的EUV光刻机仅有两款 ——NXE:3600D和NXE:3400C，均配备0.33 NA的反射式投影光学器件及13.5nm EUV光源，分别适用于3/5nm和5/7nm芯片制造。

根据Gartner分析师Alan Priestley的预测，0.55 NA EUV光刻机单价将翻番到3亿美元。