三星3nm制程良品率提升3倍：仍落后于竞争对手

近日，有消息人士透露，三星的3nm Gate-All-Around（GAA）工艺良品率已经获得了三倍提升，最高达到了60%。

但根据相关报告指出的内容，三星至少需要将良品率提升至70%，才能够追赶上主要竞争对手台积电，并赢得高通等重要客户的认可。

但台积电也并非毫无动作。

此前，台积电曾宣布，将在几年将3nm晶圆的产量提高至每月10万片左右，这将进一步拉开三星与其的差距。

有趣的是，三星或许试图从“2nm”制程实现超车。

据悉，三星此前在其第二代3nm工艺上投入了大量精力，针对功耗、性能等问题做出了改进。

而这一“第二代3nm工艺”，目前已经改名为“2nm工艺”，并已通知合作方重新签订协议。