消息称 苹果正在为消除镜头鬼影 测试抗反射光学涂层

韩国博主란즈크近日在其Naver博客中表示，苹果正测试新的抗反射光学涂层，以减少镜头炫光和鬼影等问题，从而提高照片质量。

란즈크称苹果正在考虑在iPhone相机镜头制造工艺中，引入新的原子层沉积（ALD）设备。

原子层沉积（Atomic layer deposition，ALD）是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，可以将物质以单原子膜形式逐层镀在基材表面，从而极其精确地控制纳米级的厚度和成分，可以在不影响传感器捕光性能的前提下，有效保护镜头免受环境因素的损害。

ALD工艺能够在摄像头镜头上形成极薄的抗反射涂层，这将大幅度减少拍照时的光晕和鬼影现象，例如当太阳等强光源直接照射镜头时，最终拍摄的图像中可能出现条纹和光晕，而ALD可以减少这些图像失真现象，从而提高照片的清晰度和质量。

虽然目前尚无确切信息表明ALD工艺将在哪一代iPhone Pro机型上首次亮相，考虑到ALD工艺的复杂性和对生产线的要求，苹果可能会在技术成熟并通过内部测试后，才会将其应用于大规模生产，所以iPhone 16系列几乎可以确定不会搭载该技术。